京都大学発のベンチャーである株式会社OOYOOと慶應義塾大学理工学部の奥田知明教授は、インドネシアのNGO組織・コペルニクと連携し、マスク不足が続くインドネシアで入手可能な素材を開発してマスクの生産供給体制を構築した。

 慶應義塾大学によると、高性能のマスクにはメルトブローン不織布がフィルター素材に活用されているが、インドネシアをはじめとする東南アジアでは入手が困難で、医療従事者らのマスク不足が続いている。
そこで、奥田教授らはインドネシアで入手可能な素材を使い、メルトブローン不織布とほぼ同等の粒子捕集性能を持つフィルター素材を開発し、コペルニクに提供した。この新素材を使ったマスクはインドネシアの工場で量産が始まっており、マスクの供給体制も近く確立する見通し。

 新素材は技術的に開発途上だが、現時点で0.5マイクロメートル以上の粒子を90%捕集できている。奥田教授らは引き続き、捕集率向上に向けて研究開発を進め、2020年度中に日本で市販の高性能不織布マスクと同等か、それ以上の性能を持つフィルター素材を開発し、インドネシアに提供したい考えだ。

参考:【慶應義塾大学】インドネシアにおけるマスク資材不足を解消する国際協力体制を構築(PDF)

大学ジャーナルオンライン編集部

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